国際フォトポリマーコンファレンスへのご招待

研究者の皆さん、

　組織委員を代表し、国際フォトポリマーコンファレンス（ICPST）へのご参加をお願い申し上げます。2022年のICPSTは、世界的な新型コロナ肺炎の蔓延から研究者の皆さんの安全、健康を第一に考え、6月28日から30日まで、開催いたします。長い歴史の中で第39回目となる本会には、日本はもとより世界各地のフォトポリマーやその関連領域で活動されている第一線の科学者、技術者の方々がコロナ禍を乗り越えご参加いただく会となります。

　シンポジウムでは、フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告、特に光と物質の相互作用や、それを利用したプロセスに関連したアイデアや情報が発表され、討議されます。代表的な研究分野は以下の通りです。

Ａ．英語シンポジウム

A1. Next Generation Lithography and Nanotechnology

A2. Nanobiotechnology

A3. Directed Self Assembly (DSA)

A4. Computational / Analysis Approach for Lithography Processes

A5. EUV Lithography

A6. Nanoimprint 

A7. 193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness

A8. Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing

A9. 2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics

A10. Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices

A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science

A12. Organic and Hybrid Solar Cells - Materials, Device Physics, and Processes

A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes

A14. General Scopes of Photopolymer Science and Technology

P1.   Panel Symposium: “EUV Lithography toward 10 nm and below　– Prospect of Achievement for Both Highly Sensitive and low LWR EUV Resist “

Ｂ．日本語シンポジウム

B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂 - 機能化と応用

B2. プラズマ光化学と高分子表面機能化

B3. 一般講演:

(1) 光物質科学の基礎 (光物理過程，光化学反応など)

(2) 光機能素子材料 (分子メモリー，情報記録材料，液晶 など)

(3) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング

(4) フォトファブリケーション (光成形プロセス，リソグラフィ)

(5) レジスト除去，エッチング，洗浄

(6) 装置 (光源，照射装置，計測，プロセスなど)