研究者の皆さん、
組織委員を代表し、国際フォトポリマーコンファレンス(ICPST)へのご参加をお願い申し上げます。2022年のICPSTは、世界的な新型コロナ肺炎の蔓延から研究者の皆さんの安全、健康を第一に考え、6月28日から30日まで、開催いたします。長い歴史の中で第39回目となる本会には、日本はもとより世界各地のフォトポリマーやその関連領域で活動されている第一線の科学者、技術者の方々がコロナ禍を乗り越えご参加いただく会となります。
シンポジウムでは、フォトポリマーに関する科学と技術の研究報告、特に光と物質の相互作用や、それを利用したプロセスに関連したアイデアや情報が発表され、討議されます。代表的な研究分野は以下の通りです。
A.英語シンポジウム
A1. Next Generation Lithography and Nanotechnology
A2. Nanobiotechnology
A3. Directed Self Assembly (DSA)
A4. Computational / Analysis Approach for Lithography Processes
A5. EUV Lithography
A6. Nanoimprint
A7. 193 nm Lithography Extension and EUV HVM Readiness
A8. Photopolymers in 3-D Printing / Additive Manufacturing
A9. 2D and Stimuli Responsive Materials for Electronics & Photonics
A10. Strategies and Materials for Advanced Packaging, Next Generation MEMS, Flexible Devices
A11. Chemistry for Advanced Photopolymer Science
A12. Organic and Hybrid Solar Cells - Materials, Device Physics, and Processes
A13. Fundamentals and Applications of Biomimetics Materials and Processes
A14. General Scopes of Photopolymer Science and Technology
P1. Panel Symposium: “EUV Lithography toward 10 nm and below – Prospect of Achievement for Both Highly Sensitive and low LWR EUV Resist “
B.日本語シンポジウム
B1. ポリイミド及び高温耐熱樹脂 - 機能化と応用
B2. プラズマ光化学と高分子表面機能化
B3. 一般講演:
(1) 光物質科学の基礎 (光物理過程,光化学反応など)
(2) 光機能素子材料 (分子メモリー,情報記録材料,液晶 など)
(3) 光・レーザー・電子線を活用する合成・重合・パターニング
(4) フォトファブリケーション (光成形プロセス,リソグラフィ)
(5) レジスト除去,エッチング,洗浄
(6) 装置 (光源,照射装置,計測,プロセスなど)